中国集成电路制造年会近日邀请到了光刻机霸主ASML(阿斯麦)中国区总裁沈波参加,他出面解答了一些媒体关心的话题。
尽管UMC(联电)和Globalfoundries(格芯)先后宣布放弃7nm制程及更先进工艺的研发,但ASML依然对EUV光刻机的前景表示乐观。
此前有消息指出,中芯国际(SMIC)今年已向ASML订购了一台EUV光刻机,预计明年交付,用于7nm节点。
同时,传统的沉浸式光刻机方面,沈波称,今年下半年ASML已开始出货家族最先进的NXT:2000i,很快会在中国市场上也见到。
另外,媒体早先有报道称,长江存储、上海华虹半导体分别向ASML订购了193纳米浸没式光刻机和193纳米双工件台沉浸式光刻机NXT:1980Di,分别用于存储芯片制造、晶圆代工。
据悉,ASML今年第一季度和第二季度的财报显示,大陆市场的销售收入占比达到了20%左右,已与美国持平,且超过了台湾地区。
ASML今年的EUV光刻机产能将达到20台,明后两年将逐步提升到40台。
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