光刻机和芯片有什么关系 光刻机和芯片哪个更难

发布时间:2022-11-08 11:33
作者:Ameya360
来源:网络
阅读量:2458

  光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。接下来, Ameya360电子元器件采购网详细为你说下光刻机和芯片有什么关系,光刻机和芯片哪个更难。

光刻机和芯片有什么关系 光刻机和芯片哪个更难

  一、光刻机和芯片有什么关系

  光刻机又被称为掩膜对准曝光机,在芯片生产中用于光刻工艺,而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步,所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备,总得来说光刻机是用来制造芯片的。

  光刻机是光刻技术的载体,而光刻技术是芯片技术的重要部分,光刻机的原理就是用光把图案投射到硅片上。如果想要自主生产芯片,光刻机是必要的,就像工业中的机床一样。

  光刻机与芯片存在着密不可分的关系。芯片与光刻机的关系,就好比是鱼和水。没了光刻机,再高端的芯片技术也只能停留在理想层面。目前,世界最高端的光刻机来自荷兰,相信不久之后中国也能拥有独立自主的光刻机技术。

  二、光刻机和芯片哪个更难

  都很难的。因为芯片从设计到生产制造都是一个复杂工艺,目前国内,芯片设计软件和生产核心光刻机都是国外的。不过光刻机难度最大,因为再好的设计也需要做出来才能算成功,而且还要保持良品率。

  以我们掌握程度为难易判断标准,我们掌握了就不算难,没掌握的就算难。

  芯片设计,手机通信我们有华为,中兴,展锐等。通用桌面服务器有龙芯,华为,申威等。我们已经具有完整的正向设计能力,部分芯片设计已经接近顶尖水平,差距一代不到。

  芯片制造,中芯国际量产14纳米,有望突破7纳米。华虹半导体也已经初步量产14纳米。跟最先进的台积电和三星半导体比还有很大的差距,差距一代多。

  光刻机,我们可以完全自主量产90纳米光刻机。现在最先进的极紫外光刻机只有荷兰ASML能够供货,我们跟ASML差了三代。根据公开信息,我们28纳米光刻机关键部件已经全部完成攻关,今年底有望出整机样机,两年内量产。28纳米现在世界上有两个国家量产,荷兰和日本。我们今年如果能够踏入这个阵营,差距缩小到一代。

  综合起来,光刻机差距现在最大,是最难的。但不管什么技术,只要持续不断的投入,不被眼前的困难吓倒,培养人才梯队,追赶和超越是迟早的。


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