光刻机巨头ASML Q1净销售额67.5亿欧元

发布时间：2023-04-20 09:39
作者：AMEYA360
来源：网络
阅读量：2675

　　据4月19日的消息，光刻机巨头ASML公布了2023年第一季度的财务数据，第一季度净销售额67亿欧元（当前约505.18亿元人民币），毛利率50.6%，净利润20亿欧元（当前约150.8亿元人民币）。

　　第一季度净预订销售额为38亿欧元（当前约286.52亿元人民币），其中16亿欧元（当前约45.24亿元人民币）为EUV极紫外光刻机。

光刻机巨头ASML Q1净销售额67.5亿欧元

　　ASML预计2023年第二季度净销售额在65亿欧元至70亿欧元之间（当前约490.1亿元至527.8亿元人民币之间），毛利率在50%至51%之间。ASML还预计2023年净销售额将比2022年增长25%以上。

　　ASML总裁兼首席执行官PeterWennink表示，第一季度的净销售额和毛利率均高于指导水平，这是因为该季度系统安装速度加快和验收时间提前，导致EUV和DUV收入高于预期。

　　“今年的总体需求仍然超过了我们的能力，我们目前积压了389亿欧元（当前约2933.06亿元人民币）的订单。我们的重点仍然是最大化系统输出。预计第二季度净销售额将在65亿欧元至70亿欧元之间，毛利率将在50%至51%之间。ASML预计研发成本约为9.9亿欧元（当前约74.65亿元人民币），SG&a成本约为2.75亿欧元。2023年，ASML预计将继续强劲增长，净销售额将比2022年增长25%以上，毛利率略有提高。”


（备注：文章来源于网络，信息仅供参考，不代表本网站观点，如有侵权请联系删除！）

上一篇：意法半导体与采埃孚签署长期供应协议，供应超千万颗碳化硅器件

下一篇：华为孟晚舟：数字化是整个产业链的新蓝海 跃升数字生产力正当时

在线留言询价

相关阅读
俄罗斯明年开始生产光刻机
行业新闻

俄罗斯明年开始生产光刻机

　　根据俄罗斯媒体报道指出，俄罗斯正在研发生产芯片的微影光刻机。其工业和贸易部副部长Vasily Shpak 在接受媒体访问时指出，2024 年将开始生产350 纳米微影光刻机，也就是说在明年俄罗斯就能拥有自己的光刻机了。此外，在2026年启动用于生产130 纳米制程芯片的微影光刻机。其生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。　　Vasily Shpak 指出，当前全球只有两家公司生产此类设备，包括日本NIKON 和荷兰ASML。然而，其对于半导体的生产相当重要。Vasily Shpak 指出，一个简单的逻辑就是，如果没有半导体主权，那就没有技术主权，那么你在国防安全和政治主权方面就非常脆弱。而现在俄罗斯已经掌握了使用外国制造65 纳米微影光刻机的技术，但因为外国公司被禁止向俄罗斯出口先进的微影光刻机，所以俄罗斯正在匆忙开发自己的生产设备。　　Vasily Shpak 表示，2024 年就将拨款2,114 亿卢布(约23亿美元)用于国内电子产品的开发。而俄罗斯决定开发350 纳米到65 纳米微影光刻机的原因，在于这一技术范围内的芯片多用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等方面上，这些应用大约占市场的60%。所以，这项设备在全世界市场的需求量很大，并且将在至少10 年内有持续的需求。　　另外，当被问到可能遭遇的阻力时，Vasily Shpak 说，我不想抱怨，所有的问题都不是问题，因为这关系到我们拥有哪些机会，以及所设定的目标。
2023-11-06 11:18 阅读量：1543
ASML:仍可向中国出口部分高端光刻系统,已获荷兰批准
行业新闻

ASML:仍可向中国出口部分高端光刻系统,已获荷兰批准

　　8月31日下午，商务部举行例行记者会。有媒体提问，此前荷兰宣布实施半导体出口管制并将于9月1日正式生效，中荷双方对此事有没有更新的磋商结果?　　对此，商务部新闻发言人束珏婷表示，中国政府与相关国家在出口管制领域保持沟通交流，中方希望包括荷兰在内的各方，秉持客观公正立场和市场原则，遵守契约精神和国际规则，维护自由开放的国际贸易秩序，保障企业合法权益。　　与此同时，ASML发言人也表示，公司在DUV光刻机上拿到了政府的许可。　　半导体设备制造商 ASML 周四证实，称该公司已获得荷兰政府的许可，可在年底前向中国客户出口部分先进工具。　　该公司必须根据 6 月份与美国达成的一项协议引入的许可制度，寻求批准出口一些最先进的技术——美国以安全问题为由，试图通过这种方式阻碍北京制造自己的芯片的能力。　　按估值计算，欧洲最大的科技公司 ASML 主导着光刻设备市场，该设备使用微小的光束来帮助创建芯片电路。　　该公司发言人表示，ASML 将能够在 2023 年剩余时间内继续在其 NXT:2000i 和更先进的 DUV 型号中运送这些产品，这些型号自 9 月 1 日起受到限制。　　使用深紫外光谱光波的光刻机，或“DUV”机器，是 ASML 的第二梯队产品线。其最先进的“极紫外线”或EUV机器从未出售给中国客户。　　该公司发言人周四表示：“我们的客户了解出口管制法规，因此他们知道，自 2024 年 1 月 1 日起，我们不太可能获得向中国国内客户运送这些系统的出口许可证。”　　并非所有的DUV光刻机都要许可证　　今年六月，有关荷兰出口相关限制的新闻就已经出来的，大家对于其DUV的出口限制广泛关注。有见及此，ASML发表声明表示，这些新的出口管制条例针对对象为先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积设备和浸润式光刻系统，并非部分媒体报道的所有浸润式DUV光刻系统。　　根据新出口管制条例规定，ASML需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统(即TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统)。荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向ASML提供许可证所附条件的细节。　　ASML表示其EUV光刻系统在此前已经受到限制。ASML其他系统的发运未受荷兰政府管控。　　ASML将继续遵守适用的出口管制条例，其中包括荷兰、欧盟及美国的出口管制条例。　　ASML指出，该公司认为这些管制条例不会对已发布的 2023 年财务展望以及于2022年 11 月投资者日宣布的长期展望产生重大影响。　　需要重点指出的是，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。此外，ASML长期展望的基础是全球的长期需求和技术趋势。
2023-09-01 14:01 阅读量：2144
中国能不能造出顶级光刻机
行业新闻

中国能不能造出顶级光刻机

　　光刻机是半导体工业中非常重要的设备，用于在半导体芯片制造过程中将芯片图形化。由于光刻机的精度和性能要求非常高，其制造难度也相对较大，目前市场上仅有少数几家公司能够生产出顶级光刻机。那么，中国能否造出顶级光刻机呢？　　首先，需要认识到光刻机制造领域属于高技术行业，其技术门槛非常高，需要具备丰富的经验和深厚的技术积累。当前，全球领先的光刻机制造商主要集中在荷兰、日本和美国等国家，其中荷兰ASML公司是目前世界上唯一一家能够生产出顶级光刻机的公司，其在全球光刻机市场上占据了绝对优势。　　中国的半导体工业发展经历了数十年的探索和努力，从初期的完全依赖进口到逐渐实现了自主研发，国内已经有一些光刻机制造商开始涉足这个领域。例如，中微半导体、芯朋微电子、中科曙光等企业，已经开发出了多款光刻机产品，并在国内市场上取得了一定的市场份额。　　然而，相较于国际巨头，中国的光刻机制造商在技术研发、设备精度、产业链配套等方面还存在一定的差距。这主要是由于光刻机制造需要长时间的积累和技术实践，需要大量的资金和技术支持，并且在国际市场上需要与国际巨头进行激烈的竞争。此外，中国光刻机制造商在关键零部件和核心技术方面还存在一定的短板，这也制约了其向顶级光刻机制造商发展。　　然而，随着中国半导体产业的蓬勃发展，国家在光刻机制造领域加大了研发和投资力度，为光刻机制造商提供了更多的技术和资金支持。例如，国家自主创新重大科技专项资金已经投入到光刻机技术研发中，目的是提高中国光刻机制造商的技术水平和产业竞争力。此外，中国政府也出台了一系列支持半导体产业发展的政策，包括资金支持、税收优惠、技术标准和人才培养等方面，为中国光刻机制造商提供了有力的保障和支持。　　因此，中国在未来也有望成为光刻机制造领域的重要力量。中国光刻机制造商需要在技术研发、设备制造、产品质量和售后服务等方面加大投入和努力，提高自身的技术水平和品牌影响力。同时，需要加强产业链协同和创新合作，发挥各自优势，形成产业集群，提高整个产业的竞争力。　　当然，中国要想成功制造顶级光刻机还需要面临一些挑战。例如，光刻机制造涉及到非常多的核心技术，需要长时间的技术积累和不断的创新，需要大量的研发和人才支持，这需要国内企业加大投入和努力。此外，国内光刻机制造商还需要解决与国际巨头的竞争和合作问题，需要在市场竞争、技术合作和人才引进等方面做出努力。　　总之，中国光刻机制造商在国内市场已经取得了一定的成就，但要想制造出顶级光刻机还需要加强自身的技术研发和创新能力，并与国际巨头进行竞争和合作。未来，随着中国半导体产业的不断发展和政策支持的持续加大，相信中国在光刻机制造领域的地位和影响力也将不断提高。
2023-04-04 16:50 阅读量：2894
光刻机是干什么用的 光刻机的种类有哪些
行业新闻

光刻机是干什么用的 光刻机的种类有哪些

　　光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。接下来， Ameya360电子元器件采购网详细为你说下光刻机是干什么用的，光刻机的种类有哪些。　　一、光刻机是干什么用的　　光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。光刻机的种类可分为：接触式曝光、接近式曝光、投影式曝光。　　光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上。然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。　　二、光刻机的种类有哪些　　1、接触式曝光（Contact Printing）　　掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。　　（1）软接触：就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面。　　（2）硬接触：是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触。　　（3）真空接触：是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）。　　缺点：光刻胶污染掩膜板；掩膜板的磨损，容易损坏，寿命很低（只能使用5～25次）；容易累积缺陷；上个世纪七十年代的工业水准，已经逐渐被接近式曝光方式所淘汰了，国产光刻机均为接触式曝光，国产光刻机的开发机构无法提供工艺要求更高的非接触式曝光的产品化。　　2、接近式曝光（Proximity Printing）　　掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙（Gap），Gap大约为0～200μm。可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用；掩模寿命长（可提高10倍以上），图形缺陷少。接近式在现代光刻工艺中应用最为广泛。　　3、投影式曝光（Projection Printing）　　在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光。一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。优点：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影响减小。　　投影式曝光分类：　　（1）扫描投影曝光（Scanning Project Printing）。70年代末～80年代初，〉1μm工艺；掩膜板1：1，全尺寸；　　（2）步进重复投影曝光（Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～0.25μm（DUV）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（Exposure Field）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。　　（3）扫描步进投影曝光（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末～至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（Exposure Field）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。　　4、高精度双面　　主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。　　高精度特制的翻版机构、双视场CCD显微显示系统、多点光源曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式无油真空泵、防震工作台等组成。　　适用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片的对准曝光。　　5、高精度单面　　针对各大专院校、企业及科研单位，对光刻机使用特性研发的一种高精度光刻机，中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。　　高精度对准工作台、双目分离视场CCD显微显示系统、曝光头、气动系统、真空管路系统、直联式无油真空泵、防震工作台和附件箱等组成。　　解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题。
2022-11-08 11:38 阅读量：2422
热门分类
盒子，外壳，机架 电缆，电线 电路保护 连接器，互连器件 开发套件 机电产品 嵌入式解决方案 风扇，热管理 光电元件 其它 无源元件 电源 半导体 传感器，变送器 测试与测量
  • 一周热料
  • 紧缺物料秒杀
型号 品牌 询价
TL431ACLPR Texas Instruments
MC33074DR2G onsemi
CDZVT2R20B ROHM Semiconductor
RB751G-40T2R ROHM Semiconductor
BD71847AMWV-E2 ROHM Semiconductor
型号 品牌 抢购
STM32F429IGT6 STMicroelectronics
ESR03EZPJ151 ROHM Semiconductor
BU33JA2MNVX-CTL ROHM Semiconductor
TPS63050YFFR Texas Instruments
BP3621 ROHM Semiconductor
IPZ40N04S5L4R8ATMA1 Infineon Technologies
热门标签
ROHM
Aavid
Averlogic
开发板
SUSUMU
NXP
PCB
传感器
半导体
原厂授权品牌
更多授权品牌>>
资讯排行榜
  • 周排行榜
  • 月排行榜

相关百科
关于我们
AMEYA360微信服务号 AMEYA360微信服务号
AMEYA360商城(www.ameya360.com)上线于2011年，现 有超过3500家优质供应商，收录600万种产品型号数据，100 多万种元器件库存可供选购，产品覆盖MCU+存储器+电源芯 片+IGBT+MOS管+运放+射频蓝牙+传感器+电阻电容电感+ 连接器等多个领域,平台主营业务涵盖电子元器件现货销售、 BOM配单及提供产品配套资料等，为广大客户提供一站式购 销服务。