台积电官宣1.6nm,多项新技术同时公布

Release time:2024-04-25
author:AMEYA360
source:台积电
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  台积电三表示,一种名为“A16”的新型芯片制造技术将于 2026 年下半年投入生产,与长期竞争对手英特尔展开对决——谁能制造出世界上最快的芯片。

台积电官宣1.6nm,多项新技术同时公布

  台积电是全球最大的先进计算芯片合同制造商,也是 Nvidia 和苹果的主要供应商,台积电在加利福尼亚州圣克拉拉举行的一次会议上宣布了这一消息,台积电高管表示,人工智能芯片制造商可能是该技术的首批采用者,而不是智能手机制造商。

  分析师告诉路透社,周三宣布的技术可能会让人对英特尔在 2 月份声称的将超越台积电,采用英特尔称之为“14A”的新技术制造世界上最快的计算芯片的说法提出质疑。

  台积电业务发展高级副总裁Kevin Zhang告诉记者,由于人工智能芯片公司的需求,该公司开发新的 A16 芯片制造工艺的速度比预期更快,但没有透露具体客户的名称。

  张说,人工智能芯片公司“真的希望优化他们的设计,以获得我们拥有的每一盎司性能”。

  张说,台积电认为不需要使用ASML的High NA EUV光刻机用于构建 A16 芯片的新型“高 NA EUV”光刻工具机。英特尔上周透露,它计划成为第一个使用这些机器(每台售价 3.73 亿美元)来开发其 14A 芯片的公司。

  台积电还透露了一项从芯片背面为计算机芯片供电的新技术,有助于加快AI芯片的速度,并将于2026年推出。英特尔已经宣布了一项类似的技术,旨在成为其主要竞争优势之一。

  台积电表示,随着台积电行业领先的 N3E 技术现已投入生产,N2 也有望在 2025 年下半年投入生产,台积电推出了 A16,这是其路线图上的下一个技术。A16 将把台积电的 Super Power Rail 架构与其纳米片晶体管结合起来,计划于 2026 年生产。它通过将前端布线资源专用于信号来提高逻辑密度和性能,使 A16 成为具有复杂信号路线和密集电力传输网络的 HPC 产品的理想选择。与台积电的N2P工艺相比,A16将在相同Vdd(正电源电压)下提供8-10%的速度提升,相同速度下功耗降低15-20%,并为数据中心产品提供高达1.10倍的芯片密度提升。

  分析师表示,这些公告让人对英特尔声称将重新夺回世界芯片制造桂冠的说法产生了质疑。

  分析公司 TechInsights 副主席丹·哈奇森 (Dan Hutcheson) 在谈到英特尔时表示:“这是有争议的,但从某些指标来看,我认为他们并不领先。”但 TIRIAS Research 负责人 Kevin Krewell 警告称,英特尔和台积电的技术距离交付技术还需要数年时间,需要证明真正的芯片与其主题演讲相匹配。

  据报道,台积电的新技术在北美的技术会议上宣布的,据介绍,这是公司在北美举办的第三世界会议。据相关报道,公司在会议上还公布了以下技术:

  TSMC NanoFlex 纳米片晶体管创新:台积电即将推出的 N2 技术将与 TSMC NanoFlex 一起推出,这是该公司在设计技术协同优化方面的下一个突破。TSMC NanoFlex 为设计人员提供了 N2 标准单元(芯片设计的基本构建模块)的灵活性,短单元(short cells)强调小面积和更高的功率效率,而高单元(tall cells)则最大限度地提高性能。客户能够在同一设计模块中优化短单元和高单元的组合,调整其设计以实现其应用的最佳功耗、性能和面积权衡。

  N4C 技术:台积电宣布推出 N4C,将台积电的先进技术推向更广泛的应用领域,它是 N4P 技术的延伸,可降低高达 8.5% 的芯片成本,且采用成本低,计划于 2025 年量产。N4C 提供面积高效的基础IP 和设计规则与广泛采用的 N4P 完全兼容,通过减小芯片尺寸而提高产量,为价值层产品迁移到台积电的下一个先进技术节点提供了经济高效的选择。

  CoWoS 、SoIC 和晶圆系统 (TSMC-SoW):台积电的基板晶圆上芯片 (CoWoS ) 允许客户封装更多处理器内核和高带宽内存,成为人工智能革命的关键推动者(HBM) 并排堆叠在一个中介层上。与此同时,我们的集成芯片系统 (SoIC) 已成为 3D 芯片堆叠的领先解决方案,客户越来越多地将 CoWoS 与 SoIC 和其他组件搭配使用,以实现最终的系统级封装 (SiP) 集成。

  借助晶圆系统,台积电提供了一种革命性的新选项,可在 300 毫米晶圆上实现大量芯片,提供更强的计算能力,同时占用更少的数据中心空间,并将每瓦性能提高几个数量级。台积电的首款 SoW 产品是一种基于集成扇出 (InFO) 技术的纯逻辑晶圆,现已投入生产。利用 CoWoS 技术的晶圆上芯片版本计划于 2027 年准备就绪,能够集成 SoIC、HBM 和其他组件,以创建强大的晶圆级系统,其计算能力可与数据中心服务器机架甚至整个服务器相媲美。服务器。

  硅光子集成:台积电正在开发紧凑型通用光子引擎(COUPE)技术,以支持人工智能热潮带来的数据传输爆炸式增长。COUPE 使用 SoIC-X 芯片堆叠技术将电气芯片堆叠在光子芯片之上,从而在芯片间接口处提供最低的阻抗,并且比传统的堆叠方法具有更高的能效。台积电计划在 2025 年使 COUPE 获得小型可插拔产品的资格,然后在 2026 年作为共封装光学器件 (CPO) 集成到 CoWoS 封装中,将光学连接直接引入封装中。

  汽车先进封装:在2023年推出N3AE“Auto Early”工艺后,台积电通过将先进硅与先进封装相集成,继续满足汽车客户对更强计算能力的需求,满足高速公路的安全和质量要求。台积电正在开发适用于高级驾驶辅助系统 (ADAS)、车辆控制和车辆中央计算机等应用的 InFO-oS 和 CoWoS-R 解决方案,目标是在 2025 年第四季度之前获得 AEC-Q100 2 级资格。

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台积电超大客户,正式易主
  晶圆代工龙头台积电最新出炉的2025年合并财报揭露关键客户结构变化,在AI浪潮推升下,法人圈盛传已久的「大客户换人」正式浮上台面。根据财报显示,占全年营收10%以上客户共有两家,分别贡献19%与17%,其中贡献比重达19%的甲客户,年增幅度高达7个百分点,法人推估即为NVIDIA,正式超越Apple,成为台积电最大客户。另外,外界焦点美国亚利桑那州厂TSMC Arizona,2025年度亦转亏为盈,获利达161.41亿元。  台积电2025年合并营收达3兆8,090亿元,年增31.6%,续创历史新高。甲客户全年贡献金额达7,269.74亿元,占比19%,相较2024年的12%大幅跃升;乙客户贡献金额6,451.78亿元,占比17%,则较前一年的22%下滑5个百分点。供应链指出,AI加速器与高效能运算(HPC)需求爆发,是客户排名翻转的主因。  随着生成式AI与大型语言模型运算需求激增,辉达AI GPU与相关加速平台全面放量,从资料中心训练到推论应用皆高度仰赖先进制程。法人预估,2026年辉达对台积电营收贡献比重可望突破20%,进一步巩固最大客户地位。  除客户结构洗牌外,台积电海外布局的损益表现亦成焦点。被视为「最烧钱」的美国亚利桑那厂TSMC Arizona,在4纳米制程于2024年第四季量产后,2025年全年转亏为盈,获利161.41亿元,表现优于市场预期。市场分析,AI芯片客户就近生产需求强劲,加上产能利用率提升,是美国厂快速转盈主因。  然日本熊本厂JASM去年亏损97.67亿元,法人认为,成熟制程压力大,产能未达满载为主要原因;德国厂ESMC尚在建厂期,亏损6.88亿元。中国子公司则持续贡献稳定获利,其中南京厂获利达274.53亿元最为亮眼。  财报亦揭露,台积电2025年共取得各地政府补助款762.58亿元,2024年取得751.64亿元,两年合计逾1,500亿元;相关补助主要用于厂房、设备投资及部分营运成本支出,其中亚利桑那厂可就符合资格投资申请25%投资抵减。  台积电董事长魏哲家日前于法说会指出,美国客户对AI需求极为强劲,包括苹果、辉达、超微、高通与博通等皆为重要客户,因此必须在美国扩充产能以支援需求。随着AI运算正式进入大规模部署阶段,台积电先进制程与先进封装产能的战略价值持续提升。  法人认为,从客户结构到海外获利转正,均显示台积电正站在AI产业成长曲线核心位置。随AI芯片世代更迭与3纳米、2纳米量产时程推进,2026年营运动能仍具续航空间。  2nm 制程产能,苹果、英伟达等疯抢  科技媒体 culpium 今天(2 月 27 日)发布博文,报道称台积电正敦促其客户尽快预订 N2 制程产能,排期已远至 2027 年第 2 季度,未来两年大额产能几近售罄。  台积电于 2022 年推出 N3 制程,2025 年的收入翻倍达到 250 亿美元(IT之家注:现汇率约合 1713.09 亿元人民币),且相关产能已被预订至 2027 年,如今 N2 也面临同样的紧俏局面。  N2 制程于半年前进入量产阶段,苹果率先将其用于即将发布的 MacBook 芯片。与此同时,客户格局发生剧变。  数据显示,英伟达 2025 年采购额猛增至 233 亿美元,超越苹果成为台积电最大客户。英伟达财报显示全年营收增长 65% 至 2160 亿美元,并已锁定延伸至 2027 年的供货承诺,以应对激烈的 AI 竞赛。  导致产能紧张的主因是 AI 芯片需求爆发,AI GPU 占用晶圆面积大、单价高,客户更愿意支付溢价。台积电要求客户提前约六个月锁定产能并付款,加上制造封装需四至六个月,设计商需提前一年规划。  台积电将取消苹果优先地位  尽管据报道苹果已获得台积电2nm工艺初始产能的一半以上,且大部分晶圆 将用于即将发布的iPhone 18系列的A20和A20 Pro芯片,但苹果预计将失去其作为台积电最大客户的地位 。由于人工智能的蓬勃发展,苹果不再是台积电的头号客户,一位知情人士称,台积电将不再优先为苹果供货,因为其大部分收入来自完全不同的领域。  苹果与台积电的合作关系一直被外界猜测带有某种特殊性,这也不无道理,因为苹果这家iPhone制造商一直以来都为这家半导体巨头贡献了相当可观的收入。此前曾有报道称,两家公司私下达成了一项秘密协议,苹果只采购“合格”的晶圆批次。但分析师郭明錤驳斥了这一说法,他澄清说,台积电不会承担次品晶圆的成本。  然而,我们仍然倾向于认为苹果会优先获得台积电的尖端光刻技术,但今年情况可能会发生重大变化。我们此前报道过,这家总部位于加州的科技巨头在2024年将占台积电年收入的24%,而英伟达将在2025年超越苹果。  据称,台积电2nm晶圆供应紧张,加上市场需求旺盛,这家半导体制造商被迫从2026年起连续四年提高其先进制程工艺的价格。虽然这不一定只针对苹果公司,但据估计,苹果A20 SoC的单价为280美元,这暗示价格上涨可能已经生效。据报道,2nm制程的流片量是3nm制程的1.5倍,这表明苹果、高通和联发科并非唯一的客户。
2026-03-04 17:54 reading:527
台积电宣布在日本生产3nm芯片
  2月9日消息,据多家媒体报道,台积电首席执行官在2月5日表示,为了满足人工智能芯片需求快速增长所带来的产能与成本压力,公司计划在日本南部熊本县的第二座晶圆厂大规模生产先进的 3nm 芯片,总投资达 170 亿美元(约合 1183 亿人民币)。  该工厂最初的规划是专注于 6nm-12nm 制程节点,主要服务于成熟工艺需求。 但随着 AI 相关芯片对先进制程的依赖程度不断提升,台积电才计划将该项目升级至 3nm 节点,投资规模也从原来的 122 亿美元(约合846.83 亿元人民币)提升至 170 亿美元。  目前该工厂仍处于建设阶段,预计将在 2027 年底正式投入使用。  事实上,台积电在日本的布局两年前就开始了。 2024 年 2 月,台积电位于熊本的第一座晶圆厂实现量产,主要生产 12/16nm 以及 22/28nm 芯片,重点服务汽车电子和工业领域客户。  相比之下,台积电在美国的扩产节奏更为谨慎。 其位于美国亚利桑那州的晶圆厂一期规划为 4nm,二期为 3nm,但由于人工成本高等因素影响,一期量产时间从原计划的 2024 年推迟至 2025 年,二期则延后至 2027 年甚至 2028 年。  不过,台积电最先进的 2nm 及以下制程,仍集中在中国台湾生产。  台积电此次在日本升级 3nm 制程,对当地汽车与工业芯片供应都有一定程度的帮助。 自 2025 年 9 月安世半导体被荷兰政府强行接管后,日本的汽车芯片供应受到了不小的打击。  本田汽车曾多次暂停其在日本、中国及北美工厂的生产,并预计芯片短缺将导致其 2025 财年营业利润减少约 1500 亿日元(约合66.3 亿元人民币)。 此外,日产、大众等多家车企同样受到不同程度影响。
2026-02-09 15:11 reading:491
台积电南京厂,获美国年度许可!
  据新加坡《联合早报》网站1月1日报道,台积电表示宣布,该公司已获得美国政府发放年度许可证,在2026年向位于中国大陆的南京工厂输出芯片制造设备。  台积电在发给路透社的一份声明中表示,此项许可“确保晶圆运营业务和产品交付不受干扰”。  韩国三星电子与SK 海力士两家企业,也已经获得同类进口许可。  报道称,三星电子、SK海力士和台积电此前受益于美国对华芯片相关出口全面限制的豁免政策,即“经验证最终用户(VEU)”制度。被列入“VEU”清单的企业,可以从美国进口指定的受管制物项(包括半导体设备和技术),无须再单独申请出口许可证。  不过,上述政策有效期截至去年12月31日,意味着从今年起向中国输出美产芯片制造设备仍需申请出口许可证。  台积电在声明中进一步指出:“美国商务部已向南京厂区核发年度出口许可,获准输往该厂区的美国出口管制物项,无需供应商单独申请许可。”  声明同时重申,该许可将“保障厂区生产运营与产品交付不受中断”。  据悉,台积电南京工厂专注于16纳米及其他成熟制程芯片的生产,并非该公司的尖端半导体产品。除南京外,台积电在上海亦设有一座晶圆制造工厂。据其 2024年度报告披露,南京厂区贡献的营收约占公司总营收的 2.4%。
2026-01-04 16:12 reading:535
台积电官宣:2nm量产!
  据台积电官网,台积电2纳米技术已如期于2025年第四季开始量产。N2技术采用第一代纳米片(Nanosheet)晶体管技术,提供全制程节点的效能及功耗进步。台积公司并发展低阻值重置导线层与超高效能金属层间电容以持续进行2纳米制程技术效能提升。  台积电表示,N2技术将成为业界在密度和能源效率上最为先进的半导体技术。N2技术采用领先的纳米片晶体管结构,将提供全制程节点的效能及功耗的进步,以满足节能运算日益增加的需求。N2及其衍生技术将因我们持续强化的策略,进一步扩大台积公司的技术领先优势。  从性能提升维度来看,相较于前代N3E工艺,N2工艺针对逻辑电路、模拟电路与静态随机存取存储器(SRAM)混合设计的芯片,实现了三大核心突破:同等功耗下性能提升10%—15%、同等性能下功耗降低25%—30%、晶体管密度提升15%。而针对纯逻辑电路设计的芯片,其晶体管密度较N3E工艺的提升幅度更是高达20%。  *注:台积电公布的芯片密度数据,基于“50%逻辑电路+30%静态随机存取存储器+20%模拟电路”的混合设计方案测算。  **注:性能提升为同等运行速度下的对比数据。  ***注:功耗降低为同等性能输出下的对比数据。  值得关注的是,N2工艺是台积电首款采用全环绕栅极(GAA)纳米片晶体管的制程技术。这种晶体管结构中,栅极完全包裹由多层水平纳米片构成的导电沟道,不仅优化了静电控制效果、降低了漏电率,还能在不牺牲性能与能效的前提下缩小晶体管体积,最终实现晶体管密度的大幅提升。  此外,N2工艺还在供电网络中集成了超高性能金属-绝缘体-金属电容器(SHPMIM),其电容密度达到上一代SHDMIM方案的两倍以上,同时将薄层电阻(Rs)与通孔电阻(Rc)均降低50%,有效提升了芯片的供电稳定性、运行性能与综合能效。
2025-12-30 16:43 reading:645
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