数字晶体管

发布时间：2022-09-28 11:06
作者：Ameya360
来源：网络
阅读量：2186

    数字晶体管（Digital Transistor）与普通晶体管差别不大，并没有采用任何数字技术，仅仅内置了一个或两个偏压电阻，即所谓的偏压型晶体管（Bias Resistor Transistor）。与普通晶体管相比，数字晶体管的输入-输出呈线性关系，而且工作状况稳定。

数字晶体管

数字晶体管的工作原理

    数字晶体管的工作原理与与普通晶体管一样，如图1。在这个电路中，在NPN晶体管的基极(B)-发射极(E)之间输入一个正向电压，注入基极电流。就是说，在基极(B)领域注入+空穴。

    如果在基极(B)领域注入+电子，发射极(E)的载流子-会被吸引至基极(B)，但是正极(B)领域非常薄，因此通过加入集电极电压，载流子可以穿越基极(B)流向集电极(C)。这样，电流就由集电极(C)→发射极(E)流动，数字晶体管就开始工作了。

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数字晶体管的作用

    数字晶体管具有放大和开关作用：

    （1）用作放大时，通过注入基极电流IB，在集电极IC就能够获得放大了hFE倍的电流。在电路应用中，通过输入信号持续控制集电极电流，可以得到hFE倍的输出电流。

    （2）在开关作用中，在ON时电气性饱和状态（降低集电极-发射极间的饱和电压）下使用。

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数字晶体管常用语

    表征数字晶体管的参数有7个，分别为VI(on)Min、VI(off)Max、VO(on)、II(Max.)、GI、R1、R2/R1。

    其中，VI(on)Min.是最小输入电压。这表示向OUT引脚、GND引脚间施加正向电压 (VO)，并得到规定的输出电流时需要的最小输入电压，即数字晶体管导通区域的最小输入电压值。因此，如果要从ON状态变为OFF状态，需要进一步降低该最小输入电压值，所以正常产品的电压值低于这个数值。

    VI(off)Max.是最大输入电压。这表示向OUT引脚、GND引脚间施加电源电压 (VCC)、输出电流 (IO) 的状态下，IN引脚、GND引脚间得到的最大输入电压，即可以保持数字晶体管OFF状态区域的最大输入电压值。因此，如果要从OFF状态变为ON状态，需要进一步升高该最大输入电压值，所以正常产品的电压值高于这个数值。

    VO(on)是输出电压，表示任意输入条件下不超过绝对最大额定值的输出引脚电压。GND接地放大电路流过充足的输入电流时，输出电压降低，IN、OUT接合也变为正偏压状态。在规定的VO、IO下将II设定为整数（通常10~20）分之一进行测定。

    II(Max.)是输入电流，表示向IN引脚、GND引脚间施加正向电压 (VI) 时，IN引脚连续流过电流的最大输入容许值。

    GI是GND接地直流电流增益，表示规定的VO、IO条件下的IO/II的比值。

    R1表示输入电阻，表示在IN引脚、晶体管基极之间内置的电阻。R1的公差设定为±30%。另外，还会随着温度的变化而变化。

    R2/R1是电阻比率（RESISTANCE RATIO），表示晶体管的基极发射极之间的电阻与内置输入电阻的比率。

    数字晶体管的作用是简化了电路设计，让晶体管的工作状态更稳定。

    采购时除了上述7个参数，还要考虑IP等级、包装与封装、尺寸、引脚数、极性（NPN或PNP）、输入电阻R1，射极电阻R2、功耗、放大倍数（GI/hFE）、存储温度范围，以及ROHS要求等。

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　　晶体管是一种半导体器件，常用于电子设备中作为开关、放大器或其他逻辑功能的关键组成部分。晶体管的发明备受推崇，被誉为现代信息时代的基石之一。　　1.晶体管的发展历史　　晶体管是电子技术领域中一项重要的发明，其历史可以追溯至20世纪中叶。以下将对晶体管的历史进行简要介绍：　　1. 发明之初(1947年)：1947年12月23日：贝尔实验室的科学家约翰·巴丁、沃尔特·布拉坦和威廉·肖克利成功发明了第一枚晶体管。这项里程碑性的发明被视为现代信息时代的开端。　　2. 商业化与应用拓展(1950年代)：晶体管开始商业化生产，取代了当时广泛使用的真空管技术。晶体管显示出更小巧、节能、寿命长等优势，被广泛应用于无线通讯、广播电视、计算机等设备中。　　3. 集成电路的出现(1960年代)：集成电路的问世推动了晶体管技术的进步。集成电路将多个晶体管集成在同一片芯片上，实现了更高的功能密度和性能，成为当时电子技术的主流。　　4. 微缩化与纳米技术(21世纪)：随着科技的不断发展，晶体管尺寸进一步微缩化，进入纳米级领域。纳米技术的应用使得晶体管技术更加高效、节能，并推动了移动设备、计算机等领域的快速发展。　　晶体管作为电子技术的基础元件，经历了近一个世纪的发展历程，为现代社会带来了巨大的改变和便利。其持续的创新和进步将继续引领着科技领域的发展，为人类的未来带来更多可能性。　　2.晶体管的工作原理　　晶体管通常包括三个区域：发射极(Emitter)、基极(Base)和集电极(Collector)。下面将详细解释晶体管的工作原理：　　1. P-N 结形成的基础　　P型半导体：在P型半导体中，掺入了III族元素(如硼)，形成了空穴载流子。　　N型半导体：在N型半导体中，掺入了V族元素(如磷)，形成了自由电子载流子。　　P-N 结：当P型半导体和N型半导体相接触时形成P-N结，产生内建电场。　　2. 工作过程　　发射极：发射极处于N型半导体区域，通过少量注入高速电子，这些电子会跨越P-N结进入基极区域。　　基极：基极是一个窄带隙的P型半导体区域，主要作用是控制电子从发射极到集电极的流动。　　集电极：集电极处于N型半导体区域，负责收集从基极传来的电子，并输出电流。　　3. 工作原理　　放大作用：当在基极施加一个小电压时，控制大量电子从发射极向集电极流动，实现信号的放大。　　开关功能：在基极施加适当电压时，可以控制电子的流动，实现晶体管的开关功能。　　放大和开关的切换：晶体管能够在微小输入信号控制下改变大电流输出，可应用于放大器和数字电路中。　　晶体管的工作原理源自半导体物理学的复杂性和精密设计，通过控制半导体材料中的载流子流动，实现了电子设备中重要的信号处理、放大和控制功能。　　3.晶体管的结构　　1. 发射极(Emitter)　　位置：发射极位于晶体管结构的一端，通常为N型半导体区。　　功能：发射极主要负责注入电子，作为输入信号的来源。　　2. 基极(Base)　　位置：基极位于发射极和集电极之间，通常为P型半导体区。　　功能：基极决定了从发射极到集电极之间载流子的传输和控制，起着调节器件工作的关键作用。　　3. 集电极(Collector)　　位置：集电极位于晶体管结构的另一端，通常为N型半导体区。　　功能：集电极负责收集基极传来的电子，并输出电流信号。　　4. 结构补充部分　　栅极(Gate)：在场效应晶体管中存在，用于控制电流流动。常见于MOSFET等晶体管类型。　　漏极(Drain)和源极(Source)：在场效应晶体管(如MOSFET)中使用，用于控制电流流向。　　5. 外壳和引脚　　封装：晶体管通常被封装在外壳中，以保护内部元件。　　引脚：引脚用于连接晶体管与外部电路，传递信号或电源。　　晶体管的结构设计旨在实现对载流子(电子或空穴)的有效控制，从而实现信号放大、开关等功能。不同类型的晶体管具有不同的结构设计和工作原理，但晶体管的核心目标始终是在半导体材料中控制电流的流动。　　4.晶体管的优缺点　　优点：　　小型化：晶体管体积小、重量轻，适合用于集成电路中，使得设备更加紧凑。　　高速度：晶体管响应速度快，能够实现高频率操作，适用于计算机等需要快速数据处理的场合。　　低功耗：晶体管在开关状态时功耗较低，有助于节能和延长电池寿命。　　可靠性强：晶体管寿命长，稳定性高，操作可靠，容易维护。　　精确控制：晶体管可以精确控制电流，实现信号放大和开关功能，广泛应用于各种电子设备中。　　环保：晶体管无污染、无噪音，是一种相对环保的电子器件。　　缺点：　　热散失：晶体管在工作时会产生一定的热量，存在热能损耗问题。　　失真：在放大过程中可能出现信号失真或畸变，影响输出质量。　　价格较高：高性能的晶体管价格昂贵，增加了电子产品成本。　　灵敏度：对静电、电压浪涌等外部因素灵敏，需要注意防护措施。　　尺寸限制：尽管晶体管小型化，但仍受到物理尺寸的限制，难以满足极小空间的需求。　　有限耐压：晶体管对电压波动敏感，耐压限制了其在高压领域的应用。　　虽然具有诸多优点，但也存在一些局限性和缺点，需要在设计和应用中进行综合考虑。　　5.晶体管的应用领域　　1. 通信领域　　手机和通讯设备：晶体管被用于无线电、手机基站、卫星通讯等设备中的功率放大器。　　射频识别(RFID)技术：晶体管在RFID标签和读取器中发挥作用。　　2. 计算机和信息技术　　处理器和集成电路：晶体管是现代集成电路的基础，用于构建CPU、存储器、逻辑门等功能。　　存储器件：动态随机存取存储器(DRAM)和闪存存储器等中都包含晶体管元件。　　3. 消费类电子产品　　电视和显示器：液晶显示屏背光控制、图像处理等均离不开晶体管技术。　　音频设备：功放器件、音频输出等都用到晶体管。　　4. 能源和环境　　太阳能电池：光伏电池利用晶体管将太阳能转换为电能。　　节能照明：LED照明中的驱动电路中使用了晶体管。　　5. 其他领域　　汽车和交通：晶体管用于汽车引擎控制、车载电子设备等。　　航空航天：飞机和卫星的导航系统、通讯系统中均使用了晶体管。　　晶体管的应用覆盖了几乎所有现代科技领域，其高效的电子控制性能和可靠性使其成为当今世界上最重要的电子器件之一。　　6.晶体管和二极管的区别　　晶体管(Transistor)和二极管(Diode)是常见的半导体器件，它们在结构和功能上有一些明显的区别。以下是晶体管和二极管之间的主要区别：　　1. 结构　　二极管：二极管由两个半导体材料组成，通常为P-N结构，只包含两个电极(阳极和阴极)。　　晶体管：晶体管由三个或更多个半导体材料层叠而成，通常包括发射极、基极和集电极，用于放大或控制电流。　　2. 功能　　二极管：二极管主要充当电流流向的开关，可将电流限制在一个方向，用于整流等应用。　　晶体管：晶体管不仅可以像二极管一样起到开关作用，还可以放大信号，实现信号放大、放大器、逻辑门等功能。　　3. 控制　　二极管：二极管无法控制电流的大小。它只能让电流在一个方向上流动，无法调节电流。　　晶体管：晶体管具有增益特性，可以通过基极控制电流的流动，实现对电流的放大、开关等操作。　　4. 应用范围　　二极管：二极管常用于整流电源、保护回路、光电转换等领域。　　晶体管：晶体管广泛用于放大器、微处理器、数字逻辑电路、RF功率放大器等各种电子设备中。　　5. 功能复杂性　　二极管：二极管的功能相对简单，通常只涉及电流的单向传输。　　晶体管：晶体管的功能更为复杂，可以通过控制电压或电流实现放大、开关、逻辑运算等多种功能。　　二极管主要用于控制电流的方向和整流，而晶体管除了这些功能外，还可以对电流进行放大和控制，因此在应用范围和功能复杂性上有所差异。
2024-07-03 09:27 阅读量：378
电子管和晶体管区别
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电子管和晶体管区别

　　电子管(Vacuum Tube)和晶体管(Transistor)是电子器件领域里两种重要的元件。它们都扮演着电流放大、信号调制、开关控制等关键角色，但在结构、原理、性能和应用方面存在着显著的差异。　　1. 电子管的定义和原理　　电子管是一种使用真空封装的电子设备，由阴极、网格和阳极组成。它基于热电子发射和真空中的电子流动来实现电流放大和电子控制。　　电子管的工作原理基于热电子发射效应。当加热阴极时，它会发射出热电子。这些热电子被加速，并通过正向偏置的阳极吸引，形成一个电子流。通过在电子流的路径上引入网格，可以控制电子流的强度，从而实现对电流的放大。　　2. 电子管的特点和应用　　电子管具有以下一些特点：　　高电压和功率：电子管可以承受较高的电压和功率，适用于大电流和高功率应用。　　宽频带：电子管具有宽广的频带特性，可用于放大高频信号。　　线性放大：电子管在放大过程中具有较好的线性特性，能够保持输入和输出信号的相对准确性。　　耐久性：电子管相对坚固耐用，可以在恶劣环境下工作，并具有较长寿命。　　电子管广泛应用于通信、音响、无线电等领域。例如，在无线电接收机和放大器中使用电子管实现信号放大和调制解调。　　3. 晶体管的定义和原理　　晶体管是一种半导体元件，由不同类型的半导体材料(通常是硅或锗)构成，具有三个区域：发射区、基区和集电区。它利用PN结的电场控制来实现电流放大和开关控制。　　晶体管的工作原理基于PN结的特性。当在基区中施加适当的电压时，PN结会形成一个导电通道，控制从发射区到集电区的电流。通过调节基区电压，可以控制电流的放大和开关状态。　　4. 晶体管的特点和应用　　晶体管具有以下一些特点：　　小型化和便携性：相对于电子管而言，晶体管体积小，重量轻，适合于小型和便携式设备的应用。　　低功耗：晶体管能够以较低的功率运行，因此在电源要求严格的应用中更受欢迎。　　高频特性：晶体管具有较好的高频特性，可用于高频信号放大和调制。　　耐用性和寿命：晶体管相对于电子管来说更耐用，并且具有较长的使用寿命。它们不容易受到震动、冲击或温度变化的影响，因此更适合在恶劣环境下工作。　　高集成度：晶体管可以进行高度集成，将数百甚至数千个晶体管集成在一个芯片上。这种高集成度使得晶体管在现代电子设备中得到广泛应用，例如计算机、手机、电视等。　　快速开关速度：晶体管具有快速的开关速度，能够迅速切换开关状态。这使得晶体管在数字电路和逻辑门电路中得到广泛应用。　　晶体管广泛应用于各个领域，包括通信、计算机、电子游戏、医疗设备等。它们被用于放大信号、开关控制、逻辑运算、存储和处理信息等方面。　　5. 电子管和晶体管的区别　　电子管和晶体管在结构、原理、特点和应用方面存在着显著的区别：　　结构：电子管是真空封装的设备，包含阴极、网格和阳极。而晶体管是由半导体材料构成，具有三个区域：发射极、基极和集电极。　　原理：电子管的工作原理基于热电子发射和电子束的操控，通过调节阴极上的加热电流和网格上的控制电压来控制电流的流动。晶体管则是利用半导体材料中的PN结构，通过控制基极-发射极间的电压来控制电流的流动。　　特点：电子管具有较高的功率承受能力、较大的电压放大系数和较低的内部噪声。但它们较大且脆弱，需要预热时间，并且耗能较高。晶体管则具有小巧、耐用、功耗低和可靠性高的特点。它们可以快速响应、无需预热，并且可实现集成。　　应用：由于电子管的特点，它们通常用于高功率放大器、射频通信和音频放大器等领域。而晶体管则广泛应用于计算机、电视、手机、无线通信和各种电子设备中，因其小型、高效和可靠性好的特点。
2024-01-25 09:56 阅读量：1457
如何优化GaN晶体管的 PCB 布局
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如何优化GaN晶体管的 PCB 布局

　　自从 40 多年前，第一款开关电源问世以来，PCB 的布局就一直是电力电子设计中不可或缺的一环。无论采用哪种晶体管技术，我们必须理解和管理 PCB 布局产生的寄生阻抗，确保电路正确、可靠地运行，而且不会引起不必要的电磁干扰(EMI)。　　尽管现代的宽禁带功率半导体不像早期的硅技术那样，存在严重的反向恢复问题，但其较快的开关转换，会导致其换向 dv/dt 和 di/dt 比前代硅技术更加极端。应用说明对 PCB 布局提供的建议通常是“尽量减小寄生电感”，但实现这一点的最佳方法并不总是清晰明确。此外，并非所有导电路径都需要有尽可能低的电感：例如，与电感器的互连——显然该路径中已经存在电感。　　当然，尽可能降低所有互连电感，并同时消除 PCB 上的所有节点到节点的电容是不可能的。因此，成功的PCB 布局的关键在于，理解在开关电子器件中，哪些地方的阻抗是真正重要的，以及如何减轻这种不可避免的阻抗带来的不良后果。　　为此，我们的英飞凌工程师为您列出了10项优化GaN PCB的建议：　　1、考虑晶体管开关时电流将流向何处　　2、布局电感可能在电路的某些部分很重要，但在其他部分并不重要　　3、利用薄介质的 PCB 层对，将布局电感最小化　　4、避免偏离 “上/下同路”，造成横向循环　　5、任何 SMT 封装的封装电感不一定是固定值　　6、使用顶部冷却的 SMT 封装，独立优化电气和热路径　　7、在栅极驱动电路的回流路径中使用平板　　8、防止容性电流　　9、使接地参考电路远离高压侧栅极驱动电路　　10、保持开关节点紧凑
2023-11-22 13:18 阅读量：1790
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