全球首台大型紫外3D直写<span style='color:red'>光刻设备</span>，已在苏大维格下线并投入运行
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全球首台大型紫外3D直写光刻设备，已在苏大维格下线并投入运行

据悉，大型紫外 3D 直写光刻设备 iGrapher3000，在苏大维格科技集团下线，并投入工业运行。 十多年来，苏大维格浦东林博士带领科研人员一直开展 3D 光刻技术、纳米光刻硬软件、数据处理算法和精密控制技术研发。经多轮迭代，攻克了 3D 光刻重大瓶颈，研制成功以 iGrapher3000 为代表的系列紫外 3D 直写光刻装备并在工业界应用。iGrapher3000 主要用于大基板上的微纳结构形貌的 3D 光刻，是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台，堪称为光电子产业基石性装备，为产业合作创造新机遇。 此次安装在维业达科技有限公司黄光车间的 iGrapher3000，首个工业应用项目是大尺寸透明导电膜的深槽结构微电路模具，并将用于大面积平板成像、柔性导电器件和全息显示与 3D 显示研发和产业化应用。 iGrapher3000 的运行，为苏大维格科技集团及战略合作单位，在新型光电子材料 / 器件、新型显示和传感领域的产业合作，提供关键支撑，已与多家行业头部企业建立战略合作关系。随着 IoT、5G 逐渐赋能，新型显示、柔性传感、自动驾驶、虚实融合、超构材料和平板成像等领域，将迎来变革性发展机会。前沿科学研究表明，“微纳结构界面与光电子相互作用产生的奇异电磁场特性是设计新颖材料和器件的新途径（如超构材料、超构全息显示、超构平面成像等）”。 当前国际上，新颖材料、超构表面走向实用化的主要障碍，是缺乏在大基板上制备微纳结构形貌的技术手段！包括超精密金刚石车床、电子束光刻在内的精密加工手段，以及用于芯片的极紫外投影光刻设备，都难以胜任复杂微纳结构形貌的高效加工。所以核心问题是，如何设计具有新功能的大口径光子器件？如何将海量数据转化成大面积微纳结构？因此，大面积 3D 直写光刻技术和装备研制与应用，对新一轮产业创新和前沿科学研究的意义重大。 面向大面积新颖材料与功能器件的需求，大型紫外 3D 光刻系统面临的挑战有：第一，表达“微纳结构形貌”的数据量极大，如，55 吋幅面透明电路图形数据量约 15Tb，相同尺寸平板透镜的微结构数据量>150Tb；第二，海量数据数据的运算、压缩传输与高速率光电转换技术；第三，三维数字光场曝光模式与作用机理；第四，微纳结构形貌的精确光刻工艺，包括 3D 邻近效应补偿、自适应 3D 导航自聚焦模式；第五，高速运动平台、紫外光机系统制造工艺与纳米精度控制技术。 iGrapher3000 率先在 110 吋幅面玻璃基板上实现连续面型微结构大面积平板器件，深度范围 50nm~20 微米；率先建立海量数据处理能力并转化成所设计的微纳结构形貌，涉及单文件数据量达 600Tb；率先建立支持 110 吋光刻胶板厚胶制程（2 微米~25 微米），用于后继印版工业化生产。 iGrapher3000 先进功能：1 3D 矢量设计数据向微结构形貌转化先进算法与软件；2 海量数据文件实时处理 / 传输 / 同步写入快速光刻；3 大面积衬底实时三维导航自聚焦功能；双驱动龙门构架精密控制技术；4 三维微结构形貌曝光邻近效应补偿；5 大面积光刻厚胶板的制备工艺。 iGrapher3000 为新颖光电子材料与功能器件的研究和产业创新，开辟了新通道。主要用于大尺寸光电子器件、超构表面材料、功能光电子器件等在内的微纳形貌和深结构的制备，包括大尺寸透明电路图形、高精度柔性触控传感器、高亮投影屏、全息 3D 显示、MiniLED 电路背板、高光效匀光板、虚实融合光子器件、大口径透明电磁屏蔽材料等。 另外，iGrapher3000 也可用于平板显示产业和柔性电子产业的光掩模制备，并为高精度大口径薄膜透镜的设计制备提供了战略研发资源。 
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发布时间：2020-07-29 00:00 阅读量：1486 继续阅读>>

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